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日本Sakigakes真空等離子體裝置YHS-R 薄膜形成預處理的高效解決方案

發(fā)布時間： 2025-07-29　　點擊次數(shù)： 253次

在薄膜制造領(lǐng)域，表面預處理是確保薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵步驟之一。日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置憑借其高效、緊湊的設(shè)計，為薄膜形成前的預處理提供了一種理想的解決方案。
設(shè)備特點
YHS-R是一款桌面型真空等離子體裝置，具有緊湊的結(jié)構(gòu)和便于操作的特點。其外形尺寸為220mm（寬）×250mm（深）×300mm（高），重量僅為6.8公斤，非常適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。該設(shè)備的上下電極分別采用鋁和不銹鋼材料，能夠滿足多種材料的處理需求。
薄膜形成預處理的應用
在薄膜形成前的預處理過程中，YHS-R能夠有效改善基材表面的清潔度和活性，從而提高薄膜的附著力和均勻性。等離子體處理可以去除表面的有機污染物，同時引入極性基團，增強基材與薄膜之間的化學鍵合。這種預處理方式對于提高薄膜的性能和質(zhì)量至關(guān)重要。
技術(shù)參數(shù)
平臺尺寸：φ100mm
電源：單相100V，50/60Hz，5.0A
可選支持：氣體引入、壓力調(diào)整、電源控制等（需額外付費）
操作與維護
YHS-R的操作非常簡便，配備放電定時器和復位開關(guān)，用戶可以根據(jù)需要靈活調(diào)整處理時間和操作模式。此外，設(shè)備的維護也非常方便，帶有AC100V插座，便于連接和使用。
總結(jié)
日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置以其高效、緊湊的設(shè)計和簡便的操作，為薄膜形成前的預處理提供了一種理想的解決方案。它不僅能夠顯著提高薄膜的附著力和均勻性，還能有效改善基材表面的清潔度和活性。對于需要進行薄膜制造的實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境來說，YHS-R無疑是一個值得考慮的選擇。

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日本Sakigakes真空等離子體裝置YHS-R 薄膜形成預處理的高效解決方案

設(shè)備特點

薄膜形成預處理的應用

技術(shù)參數(shù)

操作與維護

總結(jié)