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        日本ETEX非接觸式在線真空蒸鍍膜測(cè)厚儀技術(shù)解析與應(yīng)用

        發(fā)布時(shí)間: 2025-09-26  點(diǎn)擊次數(shù): 312次

        一、技術(shù)原理

        日本ETEX非接觸式在線真空蒸鍍膜測(cè)厚儀基于光學(xué)原理,通過(guò)特定波長(zhǎng)的光在材料中的透射率(光學(xué)密度)來(lái)測(cè)量鍍膜厚度。其工作原理是:當(dāng)光通過(guò)鍍膜材料時(shí),透射率與鍍膜厚度成反比關(guān)系,即鍍膜越厚,透射率越低,光學(xué)密度越高。該測(cè)厚儀利用這一原理,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)材料的光學(xué)透射率或光學(xué)密度,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)鍍膜厚度的精確測(cè)量。

        二、技術(shù)特點(diǎn)

        1. 非接觸式測(cè)量:采用光學(xué)非接觸測(cè)量方式,無(wú)需與被測(cè)材料直接接觸,避免了對(duì)材料的損傷,特別適用于對(duì)極薄膜層或易損壞材料的測(cè)量。
        2. 高精度與穩(wěn)定性:具備高測(cè)量精度,能夠提供穩(wěn)定可靠的測(cè)試數(shù)據(jù),確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。
        3. 實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè):可實(shí)時(shí)在線測(cè)量鍍膜厚度,幫助生產(chǎn)過(guò)程中及時(shí)掌握產(chǎn)品質(zhì)量,提前發(fā)現(xiàn)問(wèn)題并調(diào)整工藝,提高產(chǎn)品良品率。
        4. 靈活的測(cè)試點(diǎn)配置:用戶可根據(jù)需要自由選擇測(cè)試點(diǎn)的數(shù)量和位置,最多可定制45個(gè)測(cè)試點(diǎn)。
        5. 智能報(bào)警與控制:配備過(guò)限報(bào)警功能,可智能控制生產(chǎn)質(zhì)量,減少對(duì)人工操作的依賴,提高生產(chǎn)效率和質(zhì)量。
        6. 溫度補(bǔ)償功能:具備溫度補(bǔ)償功能,即使在高溫環(huán)境下也能保持測(cè)量值的穩(wěn)定。
        7. 自動(dòng)與手動(dòng)校準(zhǔn):提供自動(dòng)校準(zhǔn)和手動(dòng)校準(zhǔn)功能,用戶可根據(jù)需求自行設(shè)置,確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。
        8. 模塊化設(shè)計(jì)與維護(hù):采用模塊化設(shè)計(jì),各模塊通過(guò)航空插頭連接,單點(diǎn)可拆卸,便于未來(lái)的維護(hù)和升級(jí)。
        9. 抗干擾與防塵設(shè)計(jì):具有良好的抗干擾能力和防塵設(shè)計(jì),能適應(yīng)復(fù)雜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境,只需定期清潔探頭前玻璃即可。
        10. 通信與兼容性:配備RS485接口和MODBUS通信協(xié)議,可方便地與PLC、HMI、PC等設(shè)備連接,實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制。

        三、應(yīng)用領(lǐng)域

        1. 半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體制造中,膜層厚度的均勻性和精準(zhǔn)度對(duì)芯片性能至關(guān)重要。ETEX測(cè)厚儀能夠確保每一層膜的厚度符合設(shè)計(jì)要求,從而提高芯片的性能與良品率。
        2. 光學(xué)行業(yè):光學(xué)元件如鏡頭、濾光片等需要光學(xué)透過(guò)率和膜層均勻性。該測(cè)厚儀可以幫助光學(xué)工程師優(yōu)化膜層設(shè)計(jì),改善光學(xué)特性。
        3. 裝飾行業(yè):在裝飾性鍍膜如電鍍、噴涂中,膜層厚度直接影響產(chǎn)品的外觀和使用壽命。通過(guò)ETEX測(cè)厚儀,可以快速監(jiān)測(cè)鍍膜厚度,確保產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定。
        4. 醫(yī)療器械行業(yè):在醫(yī)療器械中,如植入物和手術(shù)工具的鍍膜,不僅要求美觀,更要保證安全與生物相容性。精準(zhǔn)的膜厚控制有助于提升這些產(chǎn)品的性能。
        5. 玻璃制造:在玻璃涂層生產(chǎn)線上,ETEX測(cè)厚儀可實(shí)時(shí)檢測(cè)玻璃的膜厚、均勻性和光透射率,避免生產(chǎn)出不符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的玻璃產(chǎn)品,減少損失,提高生產(chǎn)效率。
        6. 鋁箔鍍膜:在鋁箔真空鍍鋁過(guò)程中,該測(cè)厚儀能夠一次性檢測(cè)大量、寬幅和長(zhǎng)尺寸的鋁箔,實(shí)現(xiàn)在線自動(dòng)測(cè)試、實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、超限報(bào)警以及與鍍膜機(jī)的RS485通信,為鍍膜機(jī)的閉環(huán)控制提供設(shè)備支持。
        7. 硫化鋅薄膜檢測(cè):硫化鋅薄膜主要通過(guò)熱蒸發(fā)制備,ETEX測(cè)厚儀利用光學(xué)密度與膜厚成比例的原理,通過(guò)監(jiān)測(cè)硫化鋅薄膜的光學(xué)透射率(光學(xué)密度)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)其均勻性的監(jiān)控。
        8. 銅鍍膜檢測(cè):在柔性基材(如PET等材料)上通過(guò)磁控濺射鍍膜機(jī)沉積高純無(wú)氧銅導(dǎo)電層時(shí),ETEX測(cè)厚儀可以幫助實(shí)時(shí)了解鍍膜情況,并實(shí)時(shí)調(diào)整鍍膜機(jī)的工藝參數(shù),節(jié)省時(shí)間和成本。
        日本ETEX非接觸式在線真空蒸鍍膜測(cè)厚儀以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用,為提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率提供了有力的技術(shù)支持。


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