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ALEX-300AT：開啟納米級均質(zhì)時代日本 nalex 全自動納米超聲波均質(zhì)技術(shù)

發(fā)布時間： 2025-12-08　　點(diǎn)擊次數(shù)： 1次

在納米材料、生物醫(yī)藥、化妝品等對粒徑與分布要求近乎苛刻的行業(yè)里，傳統(tǒng)“研磨-分散"工藝往往受限于介質(zhì)污染、批次差異大、堵塞風(fēng)險高以及難以線性放大等痛點(diǎn)。日本 nalex 推出的 ALEX-300AT 全自動納米超聲波均質(zhì)機(jī)，憑借“無介質(zhì)分散 + 全自動恒幅控制"兩大核心技術(shù)，為實(shí)驗(yàn)室到生產(chǎn)的全程納米化提供了一條高效、潔凈且可放大的新路徑。
一、工作原理：20 kHz 空化沖擊，實(shí)現(xiàn)“真"初級粒徑
壓電-助推器耦合振蕩
高頻高壓施加于壓電陶瓷，經(jīng)鈦合金助推器放大后，前端振幅可達(dá) 20 µm 以上，以約 20 000 次/s 的頻次在液體中誘發(fā)空化。
空化云瞬時破團(tuán)聚
空化泡崩潰時產(chǎn)生局部 5 000 K、500 bar 的微環(huán)境，對納米顆粒實(shí)施高速撞擊、剪切與溶氣剝離，使其迅速回歸初級粒徑，避免“再團(tuán)聚"[16][17]。
恒幅閉環(huán)控制
新開發(fā)的“恒幅 + 自動調(diào)諧"雙電路實(shí)時跟蹤負(fù)載變化，即使面對粘度突變、泵脈動或溫度漂移，也能將振幅鎖定在設(shè)定值，保證空化強(qiáng)度一致，批間 CV<3%[16][12]。
二、技術(shù)亮點(diǎn)：讓實(shí)驗(yàn)室結(jié)果直接搬到產(chǎn)線
無介質(zhì)分散
無需氧化鋯珠或玻璃球，既杜絕了介質(zhì)磨損帶來的雜質(zhì)，也省去了后續(xù)的篩分、清洗步驟，使成品純度提升 1–2 個數(shù)量級，特別適用于醫(yī)藥注射劑、半導(dǎo)體漿料等對金屬離子敏感的體系[16][1]。
批-連一鍵切換
同一主機(jī)既可 200 mL 燒杯批處理，也可通過支架升級為 5 L/min 連續(xù)循環(huán)；選配在線流動池后，可直接對接 50 L 反應(yīng)釜，實(shí)現(xiàn)“R&D→中試→生產(chǎn)"無縫放大[1][6]。
全數(shù)字觸控
7 寸背光大屏，可同時顯示振幅、功率、溫度、運(yùn)行時間；20 組工藝配方可一鍵調(diào)用，支持 USB 導(dǎo)出審計(jì)追蹤，滿足 GMP 數(shù)據(jù)完整性要求[16][12]。
溫控-定時雙重保護(hù)
外置 Pt100 溫度探針，可設(shè)定上限停機(jī)；配合 1 s–99 h 數(shù)字定時，實(shí)現(xiàn)無人值守過夜運(yùn)行，避免過熱導(dǎo)致活性損失[16][12]。
三、典型應(yīng)用數(shù)據(jù)
納米氧化鋯：初始粒徑 50 nm，經(jīng) 3 min 分散后 D90=58 nm，D50=47 nm，單分散指數(shù) PDI 0.08。
脂質(zhì)體乳化：載藥量提升 28%，粒徑 80–120 nm，包封率 >95%，連續(xù)運(yùn)行 8 h 無振幅漂移。
碳納米管：10 wt% 高濃漿料，電導(dǎo)率提高 1.7 倍，粘度下降 35%，消除肉眼可見團(tuán)聚。
四、設(shè)備參數(shù)一覽
頻率：20 kHz（自動掃頻）
超聲功率：300 W
振幅范圍：10–100 %（1 % 步進(jìn)）
處理量：批式 10 mL–2 L；連續(xù) 0.1–5 L/min
材質(zhì)：鈦合金變幅桿 + 316L 不銹鋼觸液件
外形/重量：440 × 248 × 251 mm，約 12 kg
通訊：USB、RS-485，可選 PLC 聯(lián)動接口

結(jié)語ALEX-300AT 用“無珠"空化和全自動恒幅控制重新定義了納米均質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：讓實(shí)驗(yàn)室的 100 mL 配方數(shù)據(jù)可直接放大到 100 L 產(chǎn)線，而無需重新優(yōu)化工藝參數(shù)。對于追求高純度、窄分布、可放大且符合法規(guī)的納米分散項(xiàng)目，ALEX-300AT 無疑是一把打開“高品質(zhì)納米化"大門的鑰匙。

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